要達(dá)到獲得光亮的電解拋光表面，須使用表面上微觀粗糙度降低到低于光的波長(zhǎng)，通常認(rèn)為應(yīng)當(dāng)形成比中間黏液層更厚，更致密，更易鈍化的緊密層，它可以是趨于飽和的高粘度黏液層，也可以是固體層。

這樣，金屬的溶液是在緊密膜內(nèi)進(jìn)行的，緊密膜的形成速度應(yīng)當(dāng)超過該膜溶解速度，這是存在緊密膜的前提。

在幾乎無對(duì)流的特殊條件下，jacquet層變的十分厚，也更加緊密，甚至可以出現(xiàn)光的干涉色。在這樣厚的黏液膜或固體膜內(nèi)，陽極電流密度變的非常小，它可以使微觀的凸出部溶解，而微觀的凹入部不再溶解，這就達(dá)到了微觀整平目的。

由于類似的狀態(tài)在金屬表面的多處均存在，使表面的各個(gè)部分均發(fā)生微觀整平，這種表面的無序微觀整平的結(jié)果，就使金屬表面變的光亮。所以電拋光實(shí)際上是陽極表面的宏觀整平（一次電流分布）和微觀整平（二次電流分布）作用的結(jié)果。

只有宏觀整平，陽極表面只能變的平滑，但不能產(chǎn)生光澤。

有些電解液可以同時(shí)具有宏觀整平和微觀整平的作用，早拋光的這一階段，形成黏液層和黏液膜還不高，此時(shí)只起宏觀整平作用。

當(dāng)宏觀整平進(jìn)行到一定程度后，形成的黏液膜更黏，更貼近金屬表面，因此也可以起微觀整平的作用，從而達(dá)到拋光的效果。