電鍍廠的真空鍍加工技術(shù)：蒸騰鍍膜設(shè)備與技能 真空蒸騰鍍膜設(shè)備首要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品外表蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,然后取得亮光、漂亮、價廉的塑料,陶瓷外表金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝修裝修、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域, JTPZ多功用鍍膜技能及設(shè)備（加有射頻等離子體聚合的蒸騰鍍膜機），針對轎車、摩托車燈具而規(guī)劃的，在一個真空室內(nèi)完結(jié)蒸騰鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功用。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事國防保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。 用戶挑選在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。

電鍍加工的等離子擴滲鍍膜設(shè)備及技能；離子滲氮：能夠在輝光放電條件下，將N、C等元素進入到零件和模具內(nèi)部、明顯進步外表硬度、抗疲勞等功能和耐腐蝕性，相對于整體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、外表功能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。 等離子體化學(xué)氣相堆積設(shè)備與技能(離子滲氮，氮碳共滲) 等離子體化學(xué)氣相堆積（PCVD）是一種新式的脈沖直流等離子體輔助堆積硬質(zhì)鍍膜新技能。在必定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，參加適當比例的不同作業(yè)氣體，在脈沖電壓的作用下，經(jīng)過輝光放電發(fā)生均勻等離子體。東莞電鍍廠在不同工藝條件下，可在被處理工件外表構(gòu)成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。與CVD和PVD比較，PCVD技能可完成離子滲氮、滲碳和鍍膜在同一爐內(nèi)依次進行完成浸透復(fù)合工藝。該設(shè)備適用于要求進步外表耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化、抗疲勞的零部件和工模具。被處理資料首要包含：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具鋼、結(jié)構(gòu)鋼、不銹鋼、鈦合金、硬質(zhì)合金等。